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当全球芯片进入High-NA时代：中国“国产替代”仍被卡在光刻技术断层

ASML的High-NA EUV正进入全球先进芯片厂商导入阶段，而中国国产浸没式DUV才开始早期生产。北京确实取得设备国产化进展，但在EUV、High-NA、量产可靠性和产业链协同上仍存在明显代际差。中共“自主可控”宣传掩盖的，不是有没有国产设备，而是全球技术前沿仍在更快向前移动。